甚至可预见的未来，纳米时代终结之前，这个技术是无敌的。只有纳米时代之后，进入理论上存在的皮米级工艺时代，可能才会换成其他的技术路径。但是1纳米还不知道什么时候能达到，更别说，终结了纳米之后的皮米时代，有生之年能不能来临还是未知数。

至少，在林棋和蒙欣所知的未来，人类对于材料的加工工艺精度，还未突破1纳米。

也正是因为在关键性的技术节点上，选对了方向。所以，as公司在21世纪初，独霸光刻机市场。

而佳能和尼康等等竞争对手，后来废了老大的劲，也很制造28纳米级别精度的光刻机，更何况，as公司并未停止进步，反而不断将精度从28纳米之后，继续向20纳米、14纳米、12纳米、10纳米、7纳米，不断的提升。

其他的光刻机厂专利过期，并且，未来工艺水平会长期停滞，否则，被技术差距被拉大到十年以上的程度的业界同行，基本没有可能抢回市场。

而这次推出的光刻机，虽然工艺水平仅达到05微米，给侵入式光刻机技术丢人了，但是，宁可杀鸡用牛刀，也不能让技术路线的主导权，被别的厂商占了坑。

侵入式光刻机问世后，一直是所有的对手都束手无策，只好眼睁睁的看着一家公司垄断市场。可见，这个技术路线在未来几十年来，代表着正确的方向。未来一直到5纳米时代，技术路线上都是在2002年的技术路线上修补。

第808章 正确的技术路线 (第3/3页)

赢家通吃，而选错了方向，未来会因为技术落后，在利润更高的高端光刻机市场，失去自己的市场份额

在80年代，欧美日等等国家拥有超过百家以上的企业，都是具备能力研发和生产光刻机的，甚至，就连东德曾经也是光刻机市场上的供应商。

而进入90年代之后，大量的光刻机厂浸入式光刻机，做到了90纳米加工精度。随后，渐渐的突破65纳米、40纳米、28纳米，让非浸入式光刻机望尘莫及

尤其是，28纳米时代，更是让非浸入式光刻机厂商绝望，甚至，已经放弃了继续研发投入，因为，不可能追赶浸入式光刻机。

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